法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-11-24
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24D18/00 公开日:20050727 申请日:20041010
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-12-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-07-27
公开
公开
机译: 使用光化学工艺提供GMR研磨板纹理的方法和设备
机译: 巨磁阻器件,在种子层和铁磁层之间具有缓冲氧化物层,以提供平滑的界面
机译: 用于显示设备使用的基质上提供的用于研磨障碍金属层的化学机械抛光水性分散体组合物,其制造方法和化学机械抛光方法