基因芯片用衬底表面衍生化处理技术

摘要

本发明涉及的是一种基因芯片用衬底表面衍生化处理技术。将经超净清洗的衬底采用碱性溶液进行羟基化处理，而后用氨基硅烷偶联剂进行氨基化处理，从而形成氨基化衬底，进一步可用戊二醛进行醛基化处理，即成为醛基化衬底。采用本技术制作的衬底可用于采用点样法或片上原位合成基因芯片的制作。采用本工艺制作的基因芯片用衬底荧光背景低、连接率高、并且稳定一致。