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公开/公告号CN1542550A
专利类型发明专利
公开/公告日2004-11-03
原文格式PDF
申请/专利权人 惠普开发有限公司;
申请/专利号CN200410007643.5
发明设计人 A·H·简斯;
申请日2004-02-27
分类号G03F7/20;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人肖春京
地址 美国德克萨斯州
入库时间 2023-12-17 15:39:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-12-20
发明专利申请公布后的视为撤回
2004-11-03
公开
机译: 在任意尺寸的顺应性介质上复制高分辨率三维压印图案的方法
机译:使用纳米墨水的纳米尺寸银图案以及纳米压印和剥离工艺的间接图案化方法
机译:使用纳米压印技术制造微结构-减小聚合物膜直接纳米压印图案的图案尺寸-
机译:用于图案化磁介质应用的模板和压印抗蚀剂的光谱椭圆偏振光学临界尺寸测量
机译:用于1Tbit / inch 2 sup>和25nm间距位图案化介质的纳米压印光刻的母模和工作复制品制造
机译:走向图案绘制的三维理论:人体尺寸和形状与图案尺寸和形状的关系。
机译:功能材料的纳米成型一种多功能的互补图案复制方法用于纳米压印
机译:用于大面积图案复制的卷筒式增量式微图案压印系统的开发
机译:在非平面图案基板上通过基板编码尺寸减小外延实现三维受限结构的原位方法