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灰色调掩模的缺陷检查方法和灰色调掩模的制造方法

摘要

本发明提供一种灰色调掩模的缺陷检查方法,该灰色调掩模在薄膜晶体管基板的制造工序中使用,并具有遮光部(11a、11b)、透光部(12)和灰色调部(13),其特征在于,上述方法包括把具有超过规定容许范围的缺陷水平的黑缺陷和/或白缺陷的掩模作为不良而抽出的灰色调部的缺陷检查工序;关于上述规定容许范围,白缺陷的比黑缺陷的大(使白缺陷的阈值较大(不严格),使黑缺陷的阈值较小(严格))。从而可在不降低灰色调掩模制造的成品率的前提下防止在TFT基板中发生缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN1534365A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA株式会社;

    申请/专利号CN200410030983.X

  • 发明设计人 池边寿美;

    申请日2004-04-01

  • 分类号G02F1/136;H01L29/786;H01L21/00;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 15:34:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-02-11

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2004-12-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-10-06

    公开

    公开

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