首页> 中国专利> 具有防止基区穿通的横向延伸基区屏蔽区的功率半导体器件及其制造方法

具有防止基区穿通的横向延伸基区屏蔽区的功率半导体器件及其制造方法

摘要

一种功率MOSFET(10),它包含其中具有漂移区的半导体衬底(102)以及延伸在漂移区和半导体衬底第一表面(102a)之间的过渡区(130)。过渡区(130)中具有垂直退减的掺杂分布,其峰值在相对于第一表面(102a)的第一深度处。而且在各自第一和第二基区(126)下方提供了第一和第二基区屏蔽区(128),以便耗尽过渡区(130)。

著录项

  • 公开/公告号CN1520616A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅半导体公司;

    申请/专利号CN02811702.6

  • 发明设计人 B·J·巴利加;

    申请日2002-04-05

  • 分类号H01L29/78;H01L29/36;H01L29/08;H01L21/336;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吴立明;梁永

  • 地址 美国北卡罗来纳州

  • 入库时间 2023-12-17 15:30:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-05-30

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2004-10-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-08-11

    公开

    公开

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