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公开/公告号CN1520616A
专利类型发明专利
公开/公告日2004-08-11
原文格式PDF
申请/专利权人 硅半导体公司;
申请/专利号CN02811702.6
发明设计人 B·J·巴利加;
申请日2002-04-05
分类号H01L29/78;H01L29/36;H01L29/08;H01L21/336;
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人吴立明;梁永
地址 美国北卡罗来纳州
入库时间 2023-12-17 15:30:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-05-30
发明专利申请公布后的视为撤回
2004-10-20
实质审查的生效
2004-08-11
公开
机译: 功率半导体器件具有横向延伸的基极屏蔽区域,可抑制基极穿通和肖特基整流反激二极管
机译: 具有梯度基区半导体集成电路的横向晶体管及其制造方法
机译: 具有横向延伸的基极屏蔽区域的功率半导体器件及其形成方法,该基极屏蔽区域禁止基极穿过
机译:肺炎支原体延伸因子Tu的表面暴露羧基区域与纤连蛋白相互作用
机译:人类转录延伸因子CA150定位于富含剪接因子的核斑点,并通过其氨基和羧基区域将转录和剪接组件组装成复合体
机译:延伸因子Tu的氨基酸序列。包含GTP结合必不可少的巯基区域的序列
机译:一种新型的双GCT结构,具有短的透明阳极和p形波纹基区
机译:一种新颖的原位技术,用于制造具有受控横向厚度调制的薄膜。
机译:肺炎支原体延伸因子Tu在表面暴露的羧基区域与纤连蛋白相互作用
机译:扩大遗传密码:选择四个基区的高效抑制器,并在M. Gottesman的大肠杆菌中具有库方法的“Shifty”四个基区的鉴定。
机译:具有sIpOs(半绝缘多晶硅)异质结发射极和离子注入快速热退火基区的高频硅双极晶体管