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采用二氧化碳清洁处理来去除旋涂材料的边缘珠粒

摘要

本发明提供了从旋涂薄膜去除边缘珠粒的方法。通过旋转一旋转涂覆的衬底(3),使流体膨胀通过一个喷嘴(10)形成低温气雾流(11),并在衬底(3)旋转时,使低温气雾流(11)对准区域(4)中的旋涂薄膜(1),则可从与表面(2)的边缘(5)邻近的旋转涂覆衬底(3)的表面(2)的区域(4)除去旋涂薄膜(1)。此薄膜可能包含一种烷氧基硅烷和一种低挥发性溶剂。所述流体可以主要包括液态二氧化碳。含低挥发性溶剂的旋涂薄膜(1)不会往回生长到原来薄膜被去除的区域(4),这种边缘珠粒去除过程的时间可以降至约10秒以下,并且废弃溶剂的量也减少了。

著录项

  • 公开/公告号CN1501846A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 霍尼韦尔国际公司;

    申请/专利号CN01813839.X

  • 发明设计人 D·恩迪施;

    申请日2001-06-05

  • 分类号B08B3/02;B05D1/02;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人肖春京;章社杲

  • 地址 美国新泽西州

  • 入库时间 2023-12-17 15:22:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-11-16

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2004-08-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-06-02

    公开

    公开

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