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薄膜厚度测量装置和反射系数测量与异物检测装置和方法

摘要

薄膜厚度测量装置(1)包括:椭圆偏光计(3),用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态;和光干涉单元(4),用于获取衬底(9)上薄膜的光谱强度。在光干涉单元(4)的光学系统(45)中,光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中,来自光源(41)的照明光通过光学系统(45)发射至衬底(9)。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43),在此获取光屏蔽光栅(453a)的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时,基于光屏蔽光栅(453a)的映像得出衬底(9)的倾斜角,并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态,计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。

著录项

  • 公开/公告号CN1502969A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大日本网目版制造株式会社;

    申请/专利号CN03160220.7

  • 申请日2003-09-27

  • 分类号G01B11/06;G01N21/21;G01N21/45;

  • 代理机构72003 隆天国际知识产权代理有限公司;

  • 代理人潘培坤;楼仙英

  • 地址 日本京都府京都市

  • 入库时间 2023-12-17 15:22:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B11/06 授权公告日:20051109 终止日期:20160927 申请日:20030927

    专利权的终止

  • 2015-04-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G01B11/06 变更前: 变更后: 申请日:20030927

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2005-11-09

    授权

    授权

  • 2004-08-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-06-09

    公开

    公开

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