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混杂膜、包括该混杂膜的防反射膜、光学产品和恢复该混杂膜的除雾性能的方法

摘要

公开了混杂膜,如具有良好的耐磨性能和除雾性能的那些,包括该混杂膜的防反射膜、光学产品和恢复该混杂膜的除雾性能的方法。具有除雾性能的混杂膜可通过将一种具有亲水基团和活性基团的有机化合物与二氧化硅或与二氧化硅和氧化铝一起蒸汽沉积获得。防反射膜可作为与基材相对的最外层形成于具有混杂膜的基材上。光学产品可包括塑料基材和具有混杂膜的防反射膜。恢复光学产品的混杂膜的除雾性能的方法可包括洗涤混杂膜。

著录项

  • 公开/公告号CN1429865A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 保谷株式会社;

    申请/专利号CN02160860.1

  • 发明设计人 白川宽;三石刚史;新出谦一;

    申请日2002-12-27

  • 分类号C09D1/00;B05D1/00;G02B1/11;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人刘明海

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 14:48:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-04-25

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2003-10-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-16

    公开

    公开

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