法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-10-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/00 授权公告日:20050427 终止日期:20130821 申请日:20010821
专利权的终止
2005-04-27
授权
授权
2002-07-24
公开
公开
2002-05-08
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 制作该方法所用的半导体装置和半导体装置的方法,该方法所制得的薄膜晶体管基体和薄膜晶体管基体的制造方法,以及制造该方法所用的显示装置和显示装置的方法
机译: 图案轮廓提取方法,图像处理方法,图案边缘检索方法,探针扫描方法,半导体装置的制造方法,图案检查装置以及程序
机译: XML文档存储/检索装置和XML文档存储/检索方法及所用程序