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投影光刻成像相移滤波装置

摘要

本发明是一种投影光刻成像相移滤波装置,由照明光源、聚光镜组、成像物镜及硅片等构成,其特征是在投影光刻物镜的光瞳面位置,放置对成像光可进行相移滤波的完全透光相移滤波板,既保证成像光不受阻挡,又能提高像对比度,进一步挖掘短波长大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力能力,较大地提高投影成像光刻分辨力和大幅度增大焦深。

著录项

  • 公开/公告号CN1350193A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2002-05-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN00116190.3

  • 申请日2000-10-20

  • 分类号G02B27/46;

  • 代理机构51001 中国科学院成都专利事务所;

  • 代理人张一红

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2023-12-17 14:15:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2004-07-14

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2002-05-22

    公开

    公开

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