公开/公告号CN1337558A
专利类型发明专利
公开/公告日2002-02-27
原文格式PDF
申请/专利权人 哈珀国际有限公司;
申请/专利号CN01122832.6
发明设计人 B·多弗;C·V·维德;E·V·麦科尔米克;
申请日2001-07-09
分类号F27B9/04;F27D7/06;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人蔡民军
地址 美国纽约州
入库时间 2023-12-17 14:10:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-01-11
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2002-02-27
公开
公开
2001-12-05
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 集成电路制造中的半导体衬底清洗方法,涉及在清洗室和干燥室之间移动形成有排气通道的分隔板,以便在将晶片支撑件移至干燥室之后将两个室分开
机译: 用于面团加工站的清洗室的装置,包括支撑结构,在清洗室中的清洗位置延伸的喷枪,喷头和第一驱动马达
机译: 处理用于清洗轮转印刷机的彩色腔室的洗涤剂的方法,该方法涉及通过在清洗腔室和槽之间的通孔打开以使清洁液流动,并且使颜色和污垢颗粒从腔室流入槽中