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Environmental issues in the electronics and semiconductor industries
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1.
Remote plasma clean technology for dielectric cvd chamber cleaning to reduce pfc emissions
机译:
远程等离子清洗技术可用于电介质Cvd腔室清洗以减少pfc排放
作者:
L. Mendicino
;
P. T. Brown
;
S. Filipiak
;
D. Loop
;
R. Basnett
;
W. Holber
;
R. Pearce
;
A. Johnson
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
2.
Process compatibility parameters for wet bench plastic materials
机译:
湿工作台塑料材料的工艺兼容性参数
作者:
A. Jassal
;
A. Tewarson
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
3.
Process optimization and pfc emission reduction using C_3F_8 chamber clean processes in amat p-5000 pecvd tools
机译:
在AMAT P-5000 PEVCV工具中使用C_3F_8腔室清洁工艺优化工艺并降低pfc排放
作者:
S. Kesari
;
L. Zazzera
;
L. Tousignant
;
W. K. Reagen
;
Tri Bach
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
4.
Optimization of ultrapure water use for environmental and performance gains in semiconductor manufacturing
机译:
优化超纯水的使用,以提高半导体制造的环境和性能
作者:
R. Chiarello
;
R. Parker
;
T. Peterson
;
K. Romero
;
D. Seif
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
5.
Pfc emissions reduction and atomic fluorine generation using C_3F_8 and remote cvd chamber cleaning technology
机译:
使用C_3F_8和远程CVD腔室清洁技术减少PFC排放和产生原子氟
作者:
L. Zazzera
;
S. Kesari
;
W. Reagen
;
L. Tousignant
;
W. Holber
;
X. Chen
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
6.
Abatement of greenhouse gases using surface wave plasmas
机译:
使用表面波等离子体减少温室气体
作者:
B. Wofford
;
V. Vartanian
;
L. Beu
;
T. Lii W. F. Worth
;
C. L. Hartz
;
J. W. Bevan
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
7.
Nanoporous sio_2/vycor membranes for gas separation
机译:
纳米多孔sio_2 / vycor膜用于气体分离
作者:
N. Ramanuja
;
R.A. Levy
;
E. Ramos
;
W. Lolertpiphop
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
8.
Motorola wet tool upw usage reduction efforts using rinse resistivity
机译:
摩托罗拉使用抗冲洗性的工具减少湿气使用量的努力
作者:
K. McCormack
;
A. Ruiz-Yeomans
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
9.
Long-term evaluation of a litmas 'blue' inductively-coupled plasma device for point-of-use pfc and hfc abatement
机译:
长期评估可减少使用点的pfc和hfc的立式“蓝色”感应耦合等离子体设备
作者:
V. Vartanian
;
L. Beu
;
T. Stephens
;
R. Jewett E. Tonnis
;
D. Graves
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
10.
Impact of fluorine from nf3 based chamber cleaning processes
机译:
基于nf3的腔室清洁工艺对氟的影响
作者:
P.T. Brown
;
L. Mendicino
;
V. Vartanian
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
11.
Exhaust gas abatement using ASTRON~(TM)-a compact, low-field toroidal plasma source
机译:
使用ASTRON〜™紧凑型低场环形等离子体源减少废气
作者:
X. Cheng
;
W. Holber
;
R. Basnett
;
D. Smith
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
12.
Electrochemical routes to perfluorocompound abatement
机译:
减少全氟化合物的电化学途径
作者:
R. Taylor-smith
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
13.
Evaluation of C_4F_8O as an alternative plasma enhanced chemical vapor deposition chamber clean chemistry
机译:
评估C_4F_8O作为等离子体增强化学气相沉积室清洁化学的替代方法
作者:
L. Pruette
;
S. Karecki
;
R. Reif
;
L. Tousignant
;
W. Reagen
;
S. Kesari
;
L. Zazzera
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
14.
Energy conservation through water usage reduction in the semiconductor industry
机译:
通过减少半导体行业的用水量来节约能源
作者:
L. Mendicino
;
K. McCormack
;
S. Gibson
;
B. Patton
;
J.D. Lyon
;
J. Covington
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
15.
Continuous optical monitoring of gaseous halogens from tool effluents
机译:
连续光学监测工具流出物中的气态卤素
作者:
C. Laush
;
L. Mendicino
;
P. T. Brown
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
16.
Degradable fluorosurfactants in the semiconductor and electronics industries
机译:
半导体和电子工业中的可降解含氟表面活性剂
作者:
S. Etienne
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
17.
Catalytic destruction of pfc emissions from semiconductor fabrication tools
机译:
半导体制造工具对pfc排放的催化破坏
作者:
A. Bhatnagar T. Kaushal
;
M. Wong
;
M. Chafin
;
K. Ramaswamy
;
M. Moalem
;
S. Kats
;
S Shamouilian
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
18.
An analysis of fluorinated compound emissions reduction technologies and emission reduction goals
机译:
氟化物减排技术分析及减排目标
作者:
L. Beu
;
P.T. Brown
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
19.
The environmental and cost of ownership impacts of two wet clean tools
机译:
两种湿式清洁工具对环境和拥有成本的影响
作者:
P.T. Brown
;
J. Covington
;
K. McCormack
;
J. McDonald
;
L. Mendicino K. Rhodes
;
V. Ladigo
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
20.
Recovery of perfluorocompounds (PFCs) from semiconductor manufacturing processes using a membrane-based system
机译:
使用基于膜的系统从半导体制造过程中回收全氟化合物(PFC)
作者:
M. Foder
;
R. Wimmer
;
J. Yang
;
T. McCay
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
21.
Silicon etch by-product measurements using ftir techniques
机译:
使用ftir技术进行硅蚀刻副产物测量
作者:
J. Cripe
;
C. DAcosta
;
J. White
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
22.
Nitrate: friend of foe to granular iron remediation? an electrochemical characterization of the nitrate-iron system
机译:
硝酸盐:敌对颗粒铁修复的朋友?硝酸铁体系的电化学表征
作者:
K. Ritter
;
R. Simpraga
;
R. Gillham
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
23.
Minimizing pfc and hap emissions during ultima hdp-cvd processing: psg, usg, and fsg films
机译:
在ultima hdp-cvd处理过程中将pfc和hap排放降至最低:psg,usg和fsg胶片
作者:
A. Johnson
;
R. Pearce
;
M. Waltrip
;
T. Pham
;
P. Jennings
;
J. Branning
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
24.
Ultra pure water recycle process development and simulation
机译:
超纯水循环工艺开发与模拟
作者:
M. Schmotzer
;
J. DeGenova
;
F. Shadman
会议名称:
《Environmental issues in the electronics and semiconductor industries》
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