首页> 中国专利> 形成介质薄膜图案和形成分层图案的方法

形成介质薄膜图案和形成分层图案的方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明提供了一种形成介质薄膜图案的方法,包含步骤:通过汽相淀积方法,在其上具有抗蚀图案的基片上淀积介质薄膜,其中将CeO

著录项

公开/公告号CN1255738A

专利类型发明专利
公开/公告日2000-06-07

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社村田制作所;
展开▼

申请/专利号CN99122837.5
发明设计人越户义弘;藤林桂;丰田祐二;大川忠行;高桥亮一郎;
展开▼

申请日1999-11-26
分类号H01L21/28;
代理机构上海专利商标事务所;
代理人陈亮
地址日本京都府
入库时间 2023-12-17 13:37:56

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-01-23

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/28 授权公告日:20050209 终止日期:20111126 申请日:19991126

专利权的终止
2005-02-09

授权

授权
2000-06-07

公开

公开
2000-05-10

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 形成介质薄膜图案和形成分层图案的方法 [P] . 中国专利： CN1255738A . 2000-06-07
2. 薄膜图案形成装置、薄膜图案形成方法及装置的调整方法 [P] . 中国专利： CN102909954A . 2013-02-06
3. COMPOUNDS AND METHODS FOR MANUFACTURING THE SAME, COMPOSITIONS, COMPOSITIONS FOR OPTICAL COMPONENTS FOR FORMING, FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, RADIATELY RADIATING COMPOSITION, AMOLUTION FILM PRODUCTION METHOD, LITHOGRAPHY RUBBER FILM FORMING MATERIAL, A composition for forming a lower layer film, a method for producing a lower layer film for lithography, a resist pattern forming method, a circuit pattern forming method, and a refining method [P] . 韩国专利： KR20180051533A . 2018-05-16

机译：用于制造相同化合物的组合物和方法，用于形成的光学组分的组合物，用于光刻的膜形成组合物，抗蚀剂组合物，用于形成抗蚀剂图案的方法，用于制造辐射图案的组合物，用于制造膜的胶片，用于制造薄膜的方法，用于胶片的方法形成下层膜，用于光刻的下层膜的制造方法，抗蚀剂图案形成方法，电路图案形成方法和精制方法
4. COMPOSITION FOR FORMING FILM, RESIST COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AMORPHOUS FILM PRODUCTION METHOD, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD AND PRODUCTION METHOD FOR UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL MEMBER, RESIN FOR FORMING FILM, RESIST RESIN, RADIATION-SENSITIVE RESIN, AND RESIN FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY [P] . WO2022009966A1 . 2022-01-13

机译：用于形成膜的组合物，抗蚀剂组合物，辐射敏感组合物，无定形膜制造方法，抗蚀剂图案形成方法，用于光刻，电路图案形成方法和用于光刻薄膜的底层薄膜的制造方法，用于形成光学构件的组合物，用于形成膜，抗蚀剂树脂，辐射敏感树脂的树脂和用于形成光刻底层薄膜的树脂
5. SUBSTRATE FOR THIN FILM PATTERN FORMATION, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM PATTERN FORMATION SUBSTRATE AND THIN FILM PATTERN FORMATION SUBSTRATE [P] . 日本专利： JP2006058791A . 2006-03-02

机译：薄膜图案形成用基质，薄膜图案形成基质的制造方法以及薄膜图案形成基质