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防止因工艺条件规范改变使半导体制造工艺失效的方法

摘要

一种防止因工艺条件规范改变而引起的半导体制造工艺失效的方法,该方法包括以下步骤:如果特定工艺变量的实时工艺条件改变,那么半导体制造设备向主计算机报告已改变的工艺条件规范;然后主计算机判定该改变的工艺变量的实时工艺数据是否包括在规定数据内;如果改变的工艺变量的实时工艺数据不包括在规定数据内,那么将互锁有关的半导体制造设备,从而防止半导体工艺中的失效。

著录项

  • 公开/公告号CN1229265A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1999-09-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN98119487.7

  • 发明设计人 金成根;朴永钧;

    申请日1998-10-30

  • 分类号H01L21/00;G06F17/00;

  • 代理机构柳沈知识产权律师事务所;

  • 代理人孙履平

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-12-17 13:25:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2001-12-05

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 1999-09-22

    公开

    公开

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