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公开/公告号CN1059494A
专利类型发明专利
公开/公告日1992-03-18
原文格式PDF
申请/专利权人 天津市首饰厂;南开技术开发咨询公司;
申请/专利号CN91105851.6
发明设计人 李明智;赵景员;王义民;李万庆;季茂海;
申请日1991-08-24
分类号B41K1/00;G09F3/02;
代理机构天津市专利事务所专利代理服务部;
代理人潘冠雄
地址 300160 天津市河东区红星路118号
入库时间 2023-12-17 12:19:01
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1995-10-25
专利申请的视为撤回
1994-04-06
实质审查请求的生效
1992-03-18
公开
机译: 防伪转移箔,防伪印章,防伪介质及其制造方法
机译: 制造3D多层复杂印章的方法和使用3D多层复杂印章制造防伪膜的方法
机译: 制造多层复合印章的方法和使用多层复合印章制造防伪膜的方法
机译:使用紫外线纳米压印和电铸技术设计和制造金属纳米印章,以复制特征尺寸为35 nm的离散轨道介质
机译:使用通过原子印章印刷制造的纸质分析设备检测和提取重金属离子
机译:利用原子力显微镜光刻技术制造用于极紫外光刻掩模的沟槽纳米结构
机译:在对准的PDMS模具对中通过毛细管填充和紫外线固化轻松制造多个水凝胶原子力显微镜悬臂
机译:对网络保证印章对感知保证水平和价格容忍度的影响进行实证检验,重点放在与CPA相关的印章上。
机译:使用OAM光束作为光解码器进行防伪应用的计算机生成全息图的设计制造和表征
机译:涉及深紫外光刻的微光学系统的设计,分析和制造-在原子物理学中的应用
机译:光盘印章的环境良性制造(最终阶段II报告)