公开/公告号CN111433674A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-17
原文格式PDF
申请/专利权人 西默有限公司;
申请/专利号CN201880077675.2
申请日2018-09-26
分类号G03F7/00(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人董莘
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 11:28:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-11
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20180926
实质审查的生效
2020-07-17
公开
公开
机译: 网版组件,光刻技术,在光刻过程中的使用以及在光刻过程的单次扫描运动中投影两个或多个图像场的方法。
机译: 使用单次光刻曝光进行注入抗蚀剂图像反转的方法及其形成的结构
机译: 网版组件,光刻技术,在光刻过程中的使用以及在光刻过程的单次扫描运动中投影两个或更多图像场的方法