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一种低温掺杂、高光致发光量子产率的钙钛矿薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及一种低温掺杂、高光致发光量子产率的钙钛矿薄膜及其制备方法。本发明采用低温前驱液金属镧离子掺杂,无需高温注入和绝缘配体辅助结晶即可得到高荧光量子产率钙钛矿薄膜。对于带隙不同的钙钛矿,都可以进行金属镧离子掺杂,在365nm激光激发下基本可以得到红绿蓝三原色荧光发射。所述的方法在相对低温环境下,通过温度梯度退火和溶剂氛围退火,制备的钙钛矿晶体质量更高,缺陷更少,非辐射复合路径被有效抑制。所制备的钙钛矿薄膜在半导体发光领域具有良好的应用前景,其高效、简单的制备方法对于钙钛矿材料的商业化应用具有极大的潜力。

著录项

  • 公开/公告号CN111477746A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN202010330762.3

  • 发明设计人 方国家;刘永杰;刘陈威;

    申请日2020-04-24

  • 分类号

  • 代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人李炜

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2023-12-17 11:20:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/42 申请日:20200424

    实质审查的生效

  • 2020-07-31

    公开

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