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一种用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置

摘要

本发明公开一种用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置,包括:行程升降台,压片,衬底支撑组件,行程升降台固定支架,平板底座。通过旋转行程升降台上的旋钮来控制行程升降台的高度,进而控制压片的高度,然后再搭配两个固定的衬底支撑组件可以对条形弹性衬底形成四点的应力施加方式,进而实现对条形弹性衬底施加单轴应变的效果。其中当样品贴附在衬底上表面时,施加单轴拉伸应力;当样品贴附在衬底下表面时,施加单轴压缩应力。另外行程升降台上标有数字刻度,可以直观地控制和记录压片升降的高度。因此本发明是一个操作简单、形变量均匀可控、应变效果优良的单轴拉伸或单轴压缩应力的施加装置。

著录项

  • 公开/公告号CN111442996A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海技术物理研究所;

    申请/专利号CN202010391538.5

  • 发明设计人 孙聊新;张健;朱莉晴;张波;陆卫;

    申请日2020-05-11

  • 分类号

  • 代理机构上海沪慧律师事务所;

  • 代理人郭英

  • 地址 200083 上海市虹口区玉田路500号

  • 入库时间 2023-12-17 10:37:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N3/20 申请日:20200511

    实质审查的生效

  • 2020-07-24

    公开

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