一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘

摘要

本发明提供了一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘，包含一呈圆形的微波等离子体基片台，所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘，所述托盘的上方放置含金属成分的刀具，利用微波激发的等离子体，在刀具表面沉积CVD金刚石膜，所述托盘上表面有多个圆柱状或者圆台状凸起，含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。利用微波等离子体(MPCVD)方法，在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜。涉及通过对刀具托盘表面凸起的设计，减少微波场中含金属成分的刀具因为尖端放电而导致表面沉积金刚石膜不均匀性的影响，提高MPCVD法在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜的方法。刀具托盘表面形状的改造成本低廉，操作简便。