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一种常压烧结制备致密(HfZrTaNbTi)C高熵陶瓷烧结体的方法

摘要

本发明涉及一种常压烧结制备致密(HfZrTaNbTi)C高熵陶瓷烧结体的方法,包括:(1)选HfC粉体、ZrC粉体、TaC粉体、NbC粉体和TiC粉体作为原料,再加入粘结剂和溶剂混合,得到浆料;(2)将所得浆料干燥过筛或喷雾造粒,得到混合粉体;(3)将所得混合粉体经压制成型和真空脱粘后置于惰性气氛中,在2000~2250℃下常压烧结,得到所述高熵陶瓷烧结体。

著录项

  • 公开/公告号CN111410536A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海硅酸盐研究所;

    申请/专利号CN202010150217.6

  • 申请日2020-03-06

  • 分类号

  • 代理机构上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹芳玲

  • 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号

  • 入库时间 2023-12-17 10:03:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/56 申请日:20200306

    实质审查的生效

  • 2020-07-14

    公开

    公开

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