静电吸盘、静电吸盘系统、成膜装置及方法、吸附方法、电子器件的制造方法

摘要

本发明涉及静电吸盘、静电吸盘系统、成膜装置及方法、吸附方法以及电子器件的制造方法。可以利用静电吸盘稳定地吸附基板以及/或者掩模，并且，降低静电吸盘的电场对膜的膜质、膜厚分布的均匀性的影响。静电吸盘用于对具有多个成膜对象区域的成膜对象物进行吸附，其特征在于，所述静电吸盘具有用于对所述成膜对象物的吸附面中的包含与所述成膜对象区域对应的区域在内的区域进行吸附的第一区域、以及用于对所述成膜对象物的吸附面中的与所述多个成膜对象区域对应的区域之间的区域进行吸附的第二区域，所述静电吸盘构成为，所述第一区域中的对所述成膜对象物的每单位面积的静电引力与所述第二区域中的对所述成膜对象物的每单位面积的静电引力不同。