法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-04
实质审查的生效 IPC(主分类):A24B3/04 申请日:20200317
实质审查的生效
2020-07-10
公开
公开
机译: 电子设备的结构的真空溅射法,控制溅射材料和掺杂剂的蒸气的生长结构和生长时的掺杂浓度的控制方法,以实现上述的控制方法,以及基于硅的材料的真空注入的方法蒸气源
机译: 一种用于在真空沉积工艺中保持基板的设备,一种用于在基板上沉积层的系统以及一种用于保持基板的方法。
机译: 非暂时性计算机可读记录介质,被配置为使信息处理设备的计算机执行一种方法,该信息处理设备能够基于图像处理设备来控制执行图像输入操作和图像输出操作中的至少一个的外围设备。 ICC配置文件以及相应的控制方法