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同一外延片上实现不同发光波长的LED外延生长方法

摘要

本申请公开同一外延片上实现不同发光波长的LED外延生长方法,包括:在衬底上制备第一光刻版套刻对位图形;在衬底上依次生长GaN或AlN成核层、非掺杂的GaN缓冲层和掺Si的n型GaN层;沉积掩膜薄膜层;利用第二光刻版光刻、刻蚀露出第二光刻版中标定区域下面的n型GaN层;生长发光波长为W1的有源区发光层;沉积掩膜薄膜层;利用第三光刻版光刻、刻蚀露出第三光刻版中标定区域下面的n型GaN层;生长发光波长为W2的有源区发光层;重复交替沉积掩膜薄膜、生长不同发光波长的有源区发光层,得到不同发光波长的外延层区域;生长p型GaN层。本申请实现了同一外延片上多种发光波长的可控LED外延生长。

著录项

  • 公开/公告号CN111223968A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湘能华磊光电股份有限公司;

    申请/专利号CN202010052233.1

  • 发明设计人 苗振林;

    申请日2020-01-17

  • 分类号H01L33/00(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/08(20100101);H01L33/32(20100101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11603 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人于淼

  • 地址 423038 湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区

  • 入库时间 2023-12-17 09:25:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/00 申请日:20200117

    实质审查的生效

  • 2020-06-02

    公开

    公开

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