光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法

摘要

本申请提供了一种光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法，涉及电子技术领域。该光刻掩膜版包括：图形层，包括M个图形区和N个设置在所述图形区外围的非图形区，其中所述M≥1，所述N≥1；其中，所述N个非图形区中的至少一个包括用于监测所述光刻掩膜版的光线透过率的透光部。在本申请的实施例中，通过在光刻掩膜版的N个非图形区中的至少一个设置透光部，从而使得该光刻掩膜版被用于对待光刻基板进行曝光时，该待光刻基板的感光层上可以形成该透光部对应的标记显影区，进而实现了通过该标记显影区来衡量该光刻掩膜版的光线透过率。