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张晓情; 李沛林; 王敬松; 杨建红;
天光半导体有限公司;
兰州大学微电子研究所;
等离子增强化学气相淀积; 氮化硅; 光刻版; 保护膜;
机译:使用不同的机械预处理在有掩膜/无掩膜的Si_3N_4陶瓷上成核纳米晶金刚石
机译:使用离子束光刻技术对金刚石表面进行直接写入,离子注入掩膜图案化的分辨率,掩膜能力和通量
机译:基于残留纳米掩膜的多种多样的纳米结构林的制造,该掩膜是通过氧等离子体去除光刻胶而合成的
机译:极紫外光刻中掩膜掩膜缺陷的可印刷性
机译:利用实验室制造的相位掩膜对3D彭罗斯类准光子晶体聚合物模板进行光刻制造。
机译:使用热湿润的Pt / Pd合金蚀刻掩膜的无光刻法制备大面积亚波长抗反射结构
机译:DURIp95纳米调制陶瓷保护膜在玻璃基板上
机译:用于x射线光刻的SiC膜,x射线光刻的生产方式和掩膜版
机译:实施壳聚糖或藻酸盐作为掩膜版,以进行光刻和转移。
机译:掩膜版,用于补偿光刻系统中辐射引起的透镜误差
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