一种微纳通孔的制备方法及具有微纳通孔的结构

摘要

本发明提供一种微纳通孔的制备方法，包括步骤：提供衬底，自衬底的顶层向上依次形成结构层和牺牲层的叠层，构成第一结构，第一结构的顶层为牺牲层；基于顶层的牺牲层，形成若干分立的牺牲区域；在牺牲区域的顶层、侧壁以及承载牺牲区域的结构的表面形成侧墙膜；去除部分侧墙膜，保留牺牲区域侧壁的侧墙膜，以形成侧墙；去除牺牲区域；去除侧墙的两端，以形成若干间隔分布且独立的墙体；去除结构层和牺牲层至最底层的结构层，保留墙体下方的结构层和牺牲层；填充介质层，并平坦化以露出墙体的顶层；去除墙体两端的介质层至近衬底的顶层；去除牺牲层，形成通孔。本发明还一种具有微纳通孔的结构，包括采用本发明提供的制备方法而形成的通孔。