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结晶化监视方法、激光退火装置、及激光退火方法

摘要

算出与进行退火的处理区域接近的未被照射激光的非处理区域的层叠结构的各构成膜的膜厚计算值,通过处理区域的第二分光谱测量值与根据膜厚计算值而计算的第二分光谱计算值的拟合,算出处理区域的结晶化水平,调整对于下次进行激光退火处理的TFT基板照射的激光的激光能量。

著录项

  • 公开/公告号CN111052311A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社V技术;

    申请/专利号CN201880058153.8

  • 申请日2018-08-24

  • 分类号

  • 代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄志华

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-17 08:30:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/268 申请日:20180824

    实质审查的生效

  • 2020-04-21

    公开

    公开

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