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高分子膜形成装置、高分子膜形成方法及隔膜的制造方法

摘要

本发明的高分子膜形成装置的特征在于,具备:在内部形成有狭缝(7)以对向下方搬送的网(1)涂布保安高分子溶液的涂布液的狭缝模(2),和使由涂布在网(1)的表面的涂布液形成的涂膜与非溶剂接触的单元,所述狭缝模(2)设置成:包含在网(1)的搬送方向上的上游侧模前端部(8a)及下游侧模前端部(8b)的狭缝模前端部(8)中的、仅所述上游侧模(3)前端部与网接触,并且在所述狭缝模前端部(8)的相对位置处、未隔着所述网(1)而配置支承所述网(1)的构件。

著录项

  • 公开/公告号CN110831705A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东丽株式会社;

    申请/专利号CN201880041251.0

  • 发明设计人 木下英树;佐久间勇;守屋豪;

    申请日2018-08-29

  • 分类号B05C5/02(20060101);B05C9/04(20060101);B05C13/02(20060101);B05D1/26(20060101);B05D7/00(20060101);H01G11/52(20060101);H01M2/16(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人杨宏军

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 08:30:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):B05C5/02 申请日:20180829

    实质审查的生效

  • 2020-02-21

    公开

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