公开/公告号CN111204842A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-29
原文格式PDF
申请/专利权人 光大环境科技(中国)有限公司;
申请/专利号CN201911342477.7
申请日2019-12-23
分类号C02F1/44(20060101);B01D65/10(20060101);G06N3/08(20060101);
代理机构11336 北京市磐华律师事务所;
代理人冯永贞
地址 211106 江苏省南京市江宁区苏源大道19号九龙湖国际企业总部园B3座(江宁开发区)
入库时间 2023-12-17 08:25:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C02F1/44 申请日:20191223
实质审查的生效
2020-05-29
公开
公开
机译: 半导体外延晶片的污染评价方法及使用该污染评价方法的外延生长装置的污染评价方法
机译: 微生物污染,清洁方法,清洗方法,微生物污染评价装置的评价方法,清洁方法,清洁装置和节目评价装置
机译: 神经网络的主观评价方法,音质评价方法,图像形成装置,图像形成装置的重塑方法和图像形成装置的制造方法