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一种铱-192后装源的制备方法以及铱-192后装源

摘要

本发明涉及一种铱‑192后装源的制备方法以及铱‑192后装源,所述方法为:选用纯度大于99.9%的铱丝作为靶材料,并将其制成辐照靶。使用反应堆进行照射成铱‑192原料,为使照射后的铱原料中的194Ir核素衰变完全,需适当时间的存放。然后进行切靶、测量、分装、焊接、检验等工艺。采用上述工艺制备的铱‑192后装源焊点成半圆状,密封性好,无泄漏,表面无污染。活度平行性好,最大偏差在±5%以内。

著录项

  • 公开/公告号CN111063470A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911183808.7

  • 发明设计人 崔洪起;李梅;

    申请日2019-11-27

  • 分类号

  • 代理机构北京中济纬天专利代理有限公司;

  • 代理人陆薇薇

  • 地址 100070 北京市丰台区科学城中核路1号04号四层412-414室

  • 入库时间 2023-12-17 08:13:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-24

    公开

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