公开/公告号CN110828269A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-21
原文格式PDF
申请/专利权人 日新离子机器株式会社;
申请/专利号CN201910358773.X
发明设计人 锹田雄介;
申请日2019-04-30
分类号
代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;
代理人李成必
地址 日本京都府
入库时间 2023-12-17 07:51:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-17
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/317 申请日:20190430
实质审查的生效
2020-02-21
公开
公开
机译: 所采用的离子注入装置和离子束中和装置以及将负电荷电子引入正电荷离子束的方法和方法
机译: 防止离子注入设备中的离子束滴落的装置及其方法,通过防止离子注入设备中的离子束滴落现象将离子注入晶片中
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