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一种调控反铁磁薄膜材料的磁矩排列的方法

摘要

一种调控反铁磁薄膜材料的磁矩排列的方法,属于信息存储及传感技术领域。对钛镍铌TiNiNb形状记忆合金基片进行预拉伸处理、表面抛光以及表面的氩离子轰击处理;然后,在上述TiNiNb记忆合金基片上沉积钽Ta/镍铁NiFe/铁锰FeMn/钽Ta多层膜;沉积完毕后,在真空环境下并同时施加磁场时,对其进行热处理最后,冷却至室温即可。其原理是:通过温控TiNiNb基底的逆马氏体相变产生显著的晶格应变作用在多层膜上,通过这种应变可以控制NiFe/FeMn界面处的交换弹簧结构,从而引起FeMn的Néel矢量转动,并有效调控FeMn的磁矩排列。本发明通过简单的温度控制就能实现对交换弹簧结构的调节,进而实现对FeMn磁矩排列的有效调控,具有制备简单、控制方便、能耗低、效率高、成本低等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN111009365A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN201911280695.2

  • 申请日2019-12-13

  • 分类号H01F1/00(20060101);H01F41/02(20060101);

  • 代理机构11237 北京市广友专利事务所有限责任公司;

  • 代理人张仲波

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2023-12-17 07:34:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01F1/00 申请日:20191213

    实质审查的生效

  • 2020-04-14

    公开

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