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一种掺杂的Ge-Sb相变材料、相变存储器及其制备方法

摘要

本发明提供一种新型的掺杂的Ge‑Sb基相变材料、该材料的相变存储器(PCM)以及该PCM特定的操作方法。其中,掺杂的Ge‑Sb基材料的化学通式为Mx(GeiSbj)100‑x;M为掺杂元素,M为C、N、O、Sn中的至少一种;x代表M的原子个数百分比,0<x≤30,i、j代表Ge、Sb元素的原子个数百分比,0<i≤50,i+j=100;Ge‑Sb基相变材料中的掺杂元素M存在于Ge‑Sb晶界中,阻碍Ge‑Sb基材料结晶使得相变材料成为非均一相结构。再通过掺杂、电脉冲、激光等方式控制体系内分相程度,来实现所述相变材料在不同阻态之间的转变,可利用局域加热效应有效改善PCM的加热效率和耗散程度,极大的减小RESET功耗,用于解决现有技术中相变材料读写过程中密度变化大,操作能耗高等问题。

著录项

  • 公开/公告号CN110911557A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201911046637.3

  • 发明设计人 徐明;李博文;缪向水;

    申请日2019-10-30

  • 分类号H01L45/00(20060101);

  • 代理机构42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张英

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-12-17 07:30:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20191030

    实质审查的生效

  • 2020-03-24

    公开

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