法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-17
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20191127
实质审查的生效
2020-03-24
公开
公开
机译: 带有合成反铁磁自由层和AlN底部势垒层的双MTJ叠层
机译: 功率半导体器件中使用的增强型氮化镓晶体管包括衬底,缓冲材料,势垒材料,栅极III-V化合物,栅极金属以及在栅极金属侧壁上形成的间隔材料
机译: AlN晶体的表面处理方法,AlN晶体基质,具有磊晶层的AlN晶体基质以及半导体器件