形成于硅晶圆的表面的氧化膜的去除方法

摘要

包括：准备形成了氧化膜的硅晶圆的步骤；在气相蚀刻装置的反应容器内配置与上述氧化膜接触的部分由耐酸性树脂层构成的圆板状的晶圆载置用台的步骤；将上述硅晶圆以晶圆中心与载置用台的中心轴一致的方式载置于载置用台上的步骤；和通过向反应容器内流通含氟化氢的气体而从倒角面与晶圆下表面的界面起朝向晶圆的内侧去除氧化膜直至期望的间隔a的步骤；通过变更载置用台的台直径来进行期望的间隔a的调整。