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公开/公告号CN110785259A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-11
原文格式PDF
申请/专利权人 SKC株式会社;
申请/专利号CN201880042418.5
发明设计人 尹晟勋;柳俊城;徐章源;安宰仁;
申请日2018-07-10
分类号B24B37/20(20060101);B24B37/24(20060101);H01L21/306(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人薛琦
地址 韩国京畿道
入库时间 2023-12-17 07:08:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-06
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B37/20 申请日:20180710
实质审查的生效
2020-02-11
公开
机译: 包括窗口在内的抛光垫具有类似于抛光层的硬度
机译: 包含窗口的抛光垫,其硬度与抛光层相似
机译: 包含窗口的抛光垫,具有类似硬度的抛光层
机译:通过抛光垫表面分析研究抛光机理(第二次报告):在不进行修整的抛光过程中抛光垫表面状况的分析
机译:化学机械抛光中的抛光垫调节:调节密度分布模型以预测抛光垫表面形状
机译:抛光垫表面纹理定量评估方法的发展-抛光垫表面纹理对抛光速率的影响
机译:抛光垫抛光垫电化学机械抛光平整度研究
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:三种不同的漂白剂对采用不同抛光工艺抛光的复合样品表面显微硬度和粗糙度的影响
机译:在不同时间抛光前后复合树脂的表面硬度评估在不同时间抛光前后复合树脂的表面硬度评估
机译:用于快速生产大型平板的抛光垫