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一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法

摘要

一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN110954565A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201911359367.1

  • 申请日2019-12-25

  • 分类号G01N23/04(20180101);G01N23/20008(20180101);G01N1/28(20060101);

  • 代理机构23109 哈尔滨市松花江专利商标事务所;

  • 代理人岳泉清

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-12-17 07:08:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/04 申请日:20191225

    实质审查的生效

  • 2020-04-03

    公开

    公开

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