宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法

摘要

本发明主要目的在于提供一种宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法。所述碳膜在400nm‑12000nm波段内可透过；其制备方法为在真空气氛下，以石墨为靶材磁控溅射，溅射的同时向真空室内通入氩气和碳氢气体；所述碳氢气体为甲烷和/或氢气；所述光学薄膜依次包括宽光谱可透过的基体及设置于其表面的碳膜；或宽光谱可透过的基体、设置于其表面的增透膜及设置于增透膜表面的碳膜。所解决的技术问题是通过在碳膜镀制时引入氢元素，使其在可见光及红外波段均具有非常良好的透过性，将其应用到可见、红外均透过的光学基体表面，起到宽波段增透和物理、化学防护的作用，满足光电系统对宽光谱、多谱段透过的需求，从而更加适于实用。