首页> 中国专利> 一种高质量自支撑氮化物衬底的制备方法及生长结构

一种高质量自支撑氮化物衬底的制备方法及生长结构

摘要

本发明公开了一种高质量自支撑氮化物衬底的制备方法,包括以下步骤:提供一基板,在该基板上形成具有极性的二维材料层;在二维材料层上形成一层石墨烯层,该石墨烯层为单层结构;在单层的石墨烯层的表面生长氮化物厚膜;通过机械剥离的方式去除基板;通过研磨抛光处理的方式去除二维材料层和石墨烯层,并获得平整的氮化物厚膜,该平整的氮化物厚膜即为自支撑氮化物衬底。该方法可以实现在无缺陷的石墨烯表面生长氮化物厚膜,可以有效降低界面处缺陷,从而提高自支撑氮化物衬底的晶体质量。

著录项

  • 公开/公告号CN110729182A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州纳维科技有限公司;

    申请/专利号CN201910950441.0

  • 发明设计人 徐俞;王建峰;徐科;

    申请日2019-10-08

  • 分类号

  • 代理机构苏州国诚专利代理有限公司;

  • 代理人杨淑霞

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号

  • 入库时间 2023-12-17 05:18:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/205 申请日:20191008

    实质审查的生效

  • 2020-01-24

    公开

    公开

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