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降低离子束抛光光学元件表面污染的方法

摘要

本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。

著录项

  • 公开/公告号CN110712094A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国兵器科学研究院宁波分院;

    申请/专利号CN201910844111.3

  • 申请日2019-09-06

  • 分类号B24B13/00(20060101);B24B1/00(20060101);

  • 代理机构33102 宁波诚源专利事务所有限公司;

  • 代理人袁忠卫;张琳琳

  • 地址 315103 浙江省宁波市高新区凌云路199号

  • 入库时间 2023-12-17 05:14:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B13/00 申请日:20190906

    实质审查的生效

  • 2020-01-21

    公开

    公开

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