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一种基于鞣酸的化学增幅型紫外正性光致抗蚀剂材料及其合成方法

摘要

本发明涉及一种新型的基于鞣酸的化学增幅型紫外正性光致抗蚀剂材料及其合成方法。鞣酸先后与二叔丁基碳酸酐及2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化反应,得到部分酚羟基被叔丁基碳酸酯基保护的2,1,4-重氮萘醌磺酸酯。由于2,1,4-重氮萘醌磺酸酯基团作为常用的感光基团的同时具有光致产酸作用,在后烘条件下催化保护基团分解,导致曝光部分的碱溶性进一步变大,可由稀碱水显影成像。因此可用作一种新颖的化学增幅型单组分紫外正性光致抗蚀剂材料,也可和酚醛树脂等其它成膜材料一起组成双组分紫外正性光致抗蚀剂材料。具有感度及分辨率高、反差大、显影宽容性好等优点。原料易得,合成方法简便,可实现工业化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN104341468A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN201410178272.0

  • 发明设计人 王力元;魏琪;

    申请日2014-04-30

  • 分类号C07H13/08;C07H1/00;G03F7/039;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2023-12-17 03:36:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-09

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07H13/08 申请公布日:20150211 申请日:20140430

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-03-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07H13/08 申请日:20140430

    实质审查的生效

  • 2015-02-11

    公开

    公开

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