...
机译:基于聚酰胺酸,溶解抑制剂和光产酸剂的化学增幅型光敏聚酰亚胺的开发
机译:基于聚(酰胺酸),溶解抑制剂和光酸产生剂的化学放大型光敏聚酰亚胺的开发
机译:基于聚邻羟基酰胺,溶解抑制剂和光酸产生剂的光敏聚苯并恶唑的开发
机译:低温可固化和正型光敏聚酰亚胺,具有高机械强度,高分辨率和基于链可延伸聚(氨基酸)的良好的储能,可热降解交联剂,链增量剂,热基发生器和光拍发电机
机译:基于聚酰胺酸的光敏聚酰亚胺和光碱发生器在200℃热亚胺化
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:基于1H NMR和FT-IR数据集的44-二氨基二苯乙烯聚(酰胺酸)和聚酰亚胺结构研究
机译:基于聚(AMIC酸),溶解抑制剂和光酸发生器的化学扩增的光敏聚酰亚胺的研制
机译:聚-3-甲基噻吩涂层电极。使用聚-3-甲基噻吩基微电化学晶体管作为氧化还原电位的函数的光学和电学性质以及电学和化学信号的放大