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一种杂环多官光致产酸剂及其制备方法和制得的化学增幅型光刻胶

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摘要

本发明涉及一种杂环多官光致产酸剂，结构式如下：

1. 一种杂环多官光致产酸剂及其制备方法和制得的化学增幅型光刻胶 [P] . 中国专利： CN110231754A . 2019-09-13
2. 多官能光致产酸剂和包含其的用于厚层的化学增幅型光致抗蚀剂组合物 [P] . 中国专利： CN110325910A . 2019-10-11
3. NOVEL SULFONYL DIAZOMETHANE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR FOR CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL CONTAINING THE COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL CONTAINING THE COMPOUND, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE MATERIAL [P] . 韩国专利： KR20050021941A . 2005-03-07

机译：新型亚磺酰基二恶烷化合物，包含该化合物的化学增幅型抗蚀剂的光酸发生剂，包含该化合物的化学增幅型抗蚀剂的以及使用该材料的图案形成方法
4. POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTORESIST, A CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND A METHOD FOR PREPARING THE SAME [P] . 韩国专利： KR20090120880A . 2009-11-25

机译：用于化学增幅型光致抗蚀剂的聚合物，一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物及其制备方法
5. Novel compound, photoacid generator containing the compound, and photosensitive resin composition containing the photoacid generator [P] . 日本专利： JP6352387B2 . 2018-07-04

机译：新型化合物，包含该化合物的光致产酸剂以及包含该光致产酸剂的光敏树脂组合物