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一种低漏电低正向压降肖特基二极管结构及其制备方法

摘要

本发明的主要目的为提供一种低漏电低正向压降肖特基二极管及其制备方法,此方法采用结终端扩展技术保护终端,同时对肖特基主结势垒区进行中和调制,并且此两项的注入同时进行,提高了击穿电压,并可达到良好的低漏电效果,又工艺制程简单。本发明应用后可采用低电阻率的外延片来制造肖特基二极管,有效地降低了正向压降,既达到高压效果,并提高低漏电低压降效果。本发明可得到高效率的肖特基势垒二极管,与传统二极管结构相比,本发明二极管的应用范围更为广泛。

著录项

  • 公开/公告号CN104134703A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海安微电子有限公司;

    申请/专利号CN201410389537.1

  • 发明设计人 鲁艳春;杨忠武;王国峰;

    申请日2014-08-08

  • 分类号H01L29/872(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/329(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200233 上海市徐汇区桂平路680号33幢303-45室

  • 入库时间 2023-12-17 02:04:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/872 申请公布日:20141105 申请日:20140808

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-01-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/872 申请日:20140808

    实质审查的生效

  • 2014-11-05

    公开

    公开

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