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X波段低损耗高隔离度封装结构

摘要

本发明是X波段低损耗高隔离度封装结构,包括四层陶瓷,A外部侧印地CY1、B外部侧印地CY2、内部上层地面G1、内部中层地面G2、内部底层地面G3、通孔VIA;其中第一层的底层是射频输入端口RFIN采用的微带线,第二层的顶层是射频输出端口RFOUT采用的带状线,第三层和第四层是内部腔体Q,其中第四层的顶层是焊环H;设计整体尺寸为3mm×3mm×0.8mm,采用了介电常数为9.2的陶瓷材料,在整个X波段内最大的插入损耗仅为0.21dB,隔离度大于50dB。本发明具有能量损耗低、信号串扰小、可靠性高、尺寸小、重量轻、易于器件安装等显著优点,可广泛应用于X波段的器件封装。

著录项

  • 公开/公告号CN104112890A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410280553.7

  • 发明设计人 郑琨;曹坤;

    申请日2014-06-23

  • 分类号H01P1/36;

  • 代理机构南京君陶专利商标代理有限公司;

  • 代理人沈根水

  • 地址 210016 江苏省南京市中山东路524号

  • 入库时间 2023-12-17 01:44:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-21

    授权

    授权

  • 2014-11-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01P1/36 申请日:20140623

    实质审查的生效

  • 2014-10-22

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及的是一种应用于X波段且具有损耗低、隔离度高、尺寸小、重量轻、便于器件安装等优点的X波段低损耗高隔离度封装结构,属于微电子技术领域。

背景技术

微电子技术在21世纪迎来了高速发展的阶段,一系列产业的发展随之被带动起来。信息、能源、通讯各类新兴产业的发展离不开微电子技术,而微电子封装是微电子技术中关键的技术。微电子技术在信息化进程中一直扮演着核心和先导的角色,随着全球信息化、网络化时代的到来,微电子技术在国民经济的地位也显得越来越重要。微电子系统所需的机械支撑、电气互连、散热通道、电磁屏蔽、环境保护等功能均可由微电子封装提供。电子系统的可靠性、成本及优良的电气性能有时是取决于所采用的封装设计与材料的,而不单单依赖于电路设计,因此,微电子封装成为IC产业发展进步不可或缺的后端产品。作为微电子器件的重要组成之一,器件的许多可靠性性能都是由封装的性能决定的,因此,对于一款封装设计来说,为了降低整体器件的损耗,自身必须要求具备损耗低的特性。另外,对于X波段的应用来说,器件的可靠性显得尤为关键,因此,如何提高封装设计的隔离度,减小各端口之间的信号干扰,同样至关重要。

发明内容

本发明提出的是一种X波段低损耗高隔离度封装结构,其目的旨在克服现有技术所存在的上述缺陷,降低整体器件的损耗,提高器件的可靠性、提高封装设计的隔离度,减小各端口之间的信号干扰。

本发明的技术解决方案:X波段低损耗高隔离度封装结构,其特征是包括四层陶瓷,A外部侧印地、B外部侧印地、内部上层地面、内部中层地面、内部底层地面、通孔;其中第一层的底层是射频输入端口采用的微带线,第二层的顶层是射频输出端口采用的带状线,第三层和第四层是内部腔体,第四层的顶层是焊环。

本发明的优点:1)损耗低,可有效减小能量的消耗;2)隔离度高,可有效降低信号之间的干扰,提高可靠性;3)整体尺寸为3mm×3mm×0.8mm,尺寸小,重量轻;4)便于器件安装;5)驻波在整个X波段均小于1.21;6)插入损耗在整个X波段均小于0.21dB;7)隔离度在整个X波段均大于50dB。

附图说明

图1是X波段低损耗高隔离度封装结构的结构图。

图2是X波段低损耗高隔离度封装结构的驻波特性曲线图。

图3是X波段低损耗高隔离度封装结构的插入损耗特性曲线图。

图4是X波段低损耗高隔离度封装结构的隔离度特性曲线图。

具体实施方式

如图1所示,X波段低损耗高隔离度封装结构,其结构包括四层陶瓷,A外部侧印地CY1、B外部侧印地CY2、内部上层地面G1、内部中层地面G2、内部底层地面G3、通孔VIA;其中第一层的底层是射频输入端口RF IN采用的微带线,第二层的顶层是射频输出端口RF OUT采用的带状线,第三层和第四层是内部腔体Q,第四层的顶层是焊环H。

所述四层陶瓷的每层陶瓷的厚度均为0.2mm,其四角做倒角处理,倒角形状为三角形,倒角边长1.3mm。

所述射频输入端口RF IN和射频输出端口RF OUT采用的是微带线-带状线的变换结构,微带线与带状线之间用一个圆柱形孔柱相连接,微波信号从底层的微带线输入,经过圆柱形孔柱传输至位于第二层的带状线输出。

所述圆柱形孔柱的中间位置增加了一个比孔柱直径略大的圆盘,为了防止孔柱叠层错位。

所述内部腔体Q的腔体直径为1.8mm。

所述射频输入端口RF IN与射频输出端口RF OUT的带状线部分与芯片键合指J相接,芯片键合指J整体位于内部腔体Q的底部边缘位置。

所述的焊环H中间镂空的部分与内部腔体Q的尺寸一致,封帽盖板焊接在焊环H之上。

所述的内部上层地面G1、内部中层地面G2、内部底层地面G3通过通孔VIA相互连接,并与两端的A外部侧印地CY1和B外部侧印地CY2相接,内部上层地面G1穿过内部腔体Q的底部,其与内部底层地面G3均呈长条状且宽度相等,内部中层地面G2为全金属化地面且分别在射频输入端口RF IN和射频输出端口RF OUT的圆柱形孔柱处镂空出了圆形形状。

整体尺寸为3mm×3mm×0.8mm。

如图2所示,本发明X波段低损耗高隔离度封装结构的驻波在整个X波段均小于1.21。

如图3所示,本发明X波段低损耗高隔离度封装结构的插入损耗在整个X波段均小于0.21dB。

如图4所示,本发明X波段低损耗高隔离度封装结构的隔离度在整个X波段均大于50dB。

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