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包含具有应力产生材料层的晶体管的半导体结构及其形成方法

摘要

本发明涉及包含具有应力产生材料层的晶体管的半导体结构及其形成方法,公开一种半导体结构,其包括晶体管,该晶体管包括一个或多个伸长型半导体区,各该一个或多个伸长型半导体区包括信道区;栅极电极,其中,该栅极电极至少是在该一个或多个伸长型半导体区的每一个的两个相对侧所提供;以及应力产生材料层,该应力产生材料层提供可变应力,其中,该应力产生材料层经设置而至少在该一个或多个伸长型半导体区的每一个的信道区中提供应力,在该一个或多个伸长型半导体区的每一个的信道区中所提供的该应力是可变化的。

著录项

  • 公开/公告号CN104064599A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 格罗方德半导体公司;

    申请/专利号CN201410100362.8

  • 发明设计人 R·里克特;J·亨治尔;P·扎沃卡;

    申请日2014-03-18

  • 分类号H01L29/78;H01L21/336;

  • 代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 英属开曼群岛大开曼岛

  • 入库时间 2023-12-17 01:34:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/78 申请公布日:20140924 申请日:20140318

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2014-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20140318

    实质审查的生效

  • 2014-09-24

    公开

    公开

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