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短沟道沟槽式金属氧化物半导体场效应管

摘要

本发明公开了一种具有短沟道的沟槽式金属氧化物半导体场效应管,可以降低沟道电阻。其中,在体区下方的外延层中包括至少一个场释放区,其自对准于沟槽式源-体接触区,可以防止发生漏-源之间的穿通现象。

著录项

  • 公开/公告号CN103872133A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 力士科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201310680613.X

  • 发明设计人 谢福渊;

    申请日2013-12-11

  • 分类号H01L29/78;H01L29/06;H01L29/10;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人任岩

  • 地址 中国台湾台北县板桥市信义路177-3号

  • 入库时间 2023-12-17 00:10:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-23

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/78 申请公布日:20140618 申请日:20131211

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20131211

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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