首页> 中国专利> 改进线宽均匀性及减少通道中缺陷,并基于高电子迁移率晶体管的交换电路及微波集成电路

改进线宽均匀性及减少通道中缺陷,并基于高电子迁移率晶体管的交换电路及微波集成电路

摘要

本发明涉及一种改进线宽均匀性及减少通道中缺陷,并基于高电子迁移率晶体管的交换电路及微波集成电路。在制造基于高电子迁移率晶体管的交换电路和微波集成电路时,去除了影像场分界区或电路切割区中复合外延层材料以减小变形量而改进临界线宽的均匀性,从而达到增强一个高电子迁移率晶体管及其所制成的交换电路和微波集成电路的功能及稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN103824854A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 石以瑄;邱树农;邱星星;石宇琦;

    申请/专利号CN201410062264.X

  • 申请日2014-02-22

  • 分类号H01L27/02;H01L29/778;

  • 代理机构苏州市新苏专利事务所有限公司;

  • 代理人徐鸣

  • 地址 加拿大魁北克省布洛沙市罗斯坦路7905号

  • 入库时间 2024-02-20 00:07:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-28

    授权

    授权

  • 2014-06-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/02 申请日:20140222

    实质审查的生效

  • 2014-05-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号