法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-18
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/76 申请公布日:20140423 申请日:20120727
发明专利申请公布后的驳回
2014-05-21
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/76 申请日:20120727
实质审查的生效
2014-04-23
公开
公开
机译: 具有双控制栅单元结构和厚控制栅电介质的非易失性存储器阵列及其形成方法
机译: 具有具有高k和金属栅电极的栅电介质的半导体器件的制造方法。
机译: 具有高k栅电介质和金属栅电极的半导体器件的制造方法