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具有高K电介质和金属栅的非易失性存储器单元

摘要

一种非易失性存储器,包括第一导电类型的衬底,在其中形成的第二导电类型的第一和第二分隔开的区,在其间的沟道区。多晶硅金属栅字线被设置在沟道区的第一部分的上方并通过高K电介质层与其分隔开。字线的金属部分紧密地邻近于高K电介质层。多晶硅浮栅紧密地邻近于字线并与其分隔开,并且被设置在沟道区的另一部分的上方并与其绝缘。多晶硅耦合栅被设置在浮栅的上方并与其绝缘。多晶硅擦除栅被设置在浮栅的另一侧并与其绝缘,被设置在第二区的上方并与其绝缘,并且紧密地邻近于耦合栅的另一侧但与其分隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN103748686A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅存储技术公司;

    申请/专利号CN201280038547.X

  • 发明设计人 A.科托夫;C-S.苏;

    申请日2012-07-27

  • 分类号H01L29/76;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人马丽娜

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 23:54:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/76 申请公布日:20140423 申请日:20120727

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/76 申请日:20120727

    实质审查的生效

  • 2014-04-23

    公开

    公开

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