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化学镀金板非沉铜孔内防金沉积工艺及其除钯处理液

摘要

本发明公开了一种化学镀金板非沉铜孔内防金沉积工艺,其特征在于:在所述化学镀金板进行碱性蚀刻工艺后以及化学沉镍金前将该化学镀金板进行除钯处理。该化学镀金板非沉铜孔内防金沉积工艺及其除钯处理液,通过除钯处理液对化学镀金板进行除钯处理,消除孔内壁残留的化学镀铜时吸附在孔内壁的金属钯,使金属钯脱离或被毒化,失去活性,从而在化学镀金时对金元素不产生催化作用,不再出现非金属化孔内沉积上金层的现象,提高了产品质量和生产效率。

著录项

  • 公开/公告号CN103789779A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-05-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆山苏杭电路板有限公司;

    申请/专利号CN201410062290.2

  • 发明设计人 倪蕴之;朱永乐;陈蓁;

    申请日2014-02-24

  • 分类号C23G1/10;C23C18/31;C23F1/32;

  • 代理机构昆山四方专利事务所;

  • 代理人盛建德

  • 地址 215300 江苏省苏州市昆山市千灯镇千杨公路2号

  • 入库时间 2024-02-19 23:32:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-31

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23G1/10 申请公布日:20140514 申请日:20140224

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23G1/10 申请日:20140224

    实质审查的生效

  • 2014-05-14

    公开

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